全口徑環(huán)形拋光的光學(xué)元件面形誤差影響因素及其控制

摘要： 全口徑環(huán)形拋光是加工大口徑平面光學(xué)元件的關(guān)鍵技術(shù)之一，其瓶頸問(wèn)題是元件面形的高效高精度控制。通過(guò)研究元件面形的影響因素及其控制方法從而提升其確定性控制水平。圍繞影響面形誤差的運(yùn)動(dòng)速度、拋光盤表面形狀誤差和鈍化狀態(tài)等關(guān)鍵工藝因素，建立基于運(yùn)動(dòng)軌跡有效弧長(zhǎng)的環(huán)形拋光運(yùn)動(dòng)學(xué)模型，揭示了拋光盤表面開(kāi)槽槽型對(duì)面形誤差的影響規(guī)律；提出了采用位移傳感器以螺旋路徑掃描拋光盤表面并通過(guò)插值算法生... （共11頁(yè)）