晶面取向?qū)iN涂層導(dǎo)電性能的影響研究

摘要： 目的 TiN涂層的晶面擇優(yōu)生長取向?qū)ζ湫阅苡酗@著影響，當(dāng)前TiN涂層晶面取向?qū)ζ鋵?dǎo)電性能的影響機(jī)理尚未明確。因此，將模擬計(jì)算與實(shí)驗(yàn)研究相結(jié)合，開展晶面取向?qū)ν繉訉?dǎo)電性能影響的研究。方法 采用第一性原理計(jì)算研究了晶面取向?qū)iN表面能、能帶結(jié)構(gòu)、態(tài)密度、電荷布居及自由電子相對(duì)濃度的影響。同時(shí)，利用HiPIMS技術(shù)實(shí)現(xiàn)了不同晶面取向TiN涂層的制備。結(jié)果 經(jīng)過理論計(jì)算，TiN(20... （共9頁）